Máquina de recubrimiento por pulverización catódica

Bajo vacío

Magnetrón chisporroteante

900M (objetivo único)

Chisporroteo de plasma

900 y 800 (objetivo único); SD-2000III (Tres objetivos)

Evaporación térmica

800C y 980 (cuerda de carbono, sin cabeza objetivo)

SPuttering magnetrón + evaporación térmica

900C (objetivo único), el otro caso es una cuerda de carbono

Alto vacío

Magnetrón chisporroteante

SD-650MH(CC+ CC, CC + RF, RF+ RF)

Evaporación térmica

SD-100AF (varilla de carbono por evaporación de calor, bote de molibdeno, barra de alambre de tungsteno)