Máquina de limpieza con luz UV de perovskita tipo cajón pequeño para limpieza de sustratos pequeños como ITO y FTO

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Número de artículo.:
TMAX-BZS
certificado :
CE Certified
garantía :
1 Year limited warranty with lifetime support

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Detalles del producto

Máquina de limpieza con luz UV de perovskita tipo cajón pequeño para limpieza de sustratos pequeños como ITO y FTO

La máquina de limpieza con luz UV BZS250GF-TC tiene una eficiencia y un efecto de limpieza de nivel industrial, adecuada para la limpieza de sustratos pequeños, como paneles de cristal líquido, ITO, FTO, vidrio óptico, OLED, LCD, silicio, cerámica, láminas de metal, polímeros, Silicona y otras limpiezas de superficies, para limpiar la materia orgánica de la superficie del producto, es decir, modificación de la superficie. De este modo se obtiene una mejor hidrofilicidad.

A. Configuración del producto

Número de serie	Descripción	Número de modelo
Número de serie	Descripción	BZS200GF-TC	BZS250GF-TC	BZS320GF-TC
1	Material de la máquina completa	Toda la máquina está hecha de acero inoxidable tipo espejo 304 y los componentes clave están hechos de Schneider, Omron y otras marcas
2	Fuente de alimentación	220 V, 250 W	220 V, 300 W	220 V, 350 W
3	Potencia de la lámpara	200W	250W	320W
4	Tamaño de limpieza	150*150mm	200*200mm	250*250mm
5	Tecnología de materiales de lámpara	Material de cuarzo puro japonés, lámpara de rejilla de una forma
6	Espectro operativo	185+254nm
7	Duración de la lámpara	8000 horas
8	Período de tiempo	0-99 minutos/hora
9	Altura de irradiación	0-100 mm
10	Asistencia ligera	Reflector de alto rendimiento
11	Calefacción (opcional)	Rango de calentamiento desde temperatura ambiente hasta 300 ℃
12	Protección de seguridad	La lámpara se apaga automáticamente cuando se saca el cajón
13	Luz de señal	Indicación/alerta de excepción
14	Función de escape	Con sistema de escape de ozono, salida de 125 mm de diámetro, equipado con tubos de aire y sujetadores
15	Dimensión general	350 ancho400 largo350 alto (mm)		450L390W350H (mm)
16	Peso	20kg		22kg

B. Campo de aplicación

â Limpie el sustrato antes de depositar la película. Eliminación de espuma y estabilización del tratamiento fotorresistente. Sello de vacío ultraalto.

â Limpiar chips de silicio, lentes, espejos, paneles solares, acero laminado en frío, piezas de guía inercial y chips de GaAs

â Flujo limpio, circuito de mezcla y pantalla LCD plana

â Grabado de teflón, cauchos fluorados y otros materiales orgánicos

â Superficie de pasivación mejorada de óxido de Si y GaAs

â Mejora el efecto desgasificante del vidrio

â Eliminación de la película azul del sustrato

â Mejora la adhesión del revestimiento sobre la superficie de plástico

â Borre la mancha de tinta después de la prueba final del sustrato

â Quitar fotoprotector

â Pantalla plana/pantalla LCD

â Eliminar residuos de la máquina litográfica

â Limpie la placa de circuito antes de empaquetarla y pegarla)

â Fibra óptica

â Propiedades hidrófilas de superficie mejoradas

â Limpieza y desinfección para aplicaciones de biociencias

â Lente óptica

â Otras aplicaciones

C. Efecto de limpieza

El efecto de limpieza generalmente se prueba mediante la hidrofilicidad de la superficie del sustrato, es decir, el ángulo de contacto

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