fuente de alimentación rf para PECVD El PECVD El sistema consta de un horno de tubo, una cámara de vacío de cuarzo, un sistema de vacío, un sistema de suministro de gas y un sistema de suministro de energía por radiofrecuencia. utilizado principalmente para: crecimiento de películas delgadas de metal, películas delgadas de cerámica, películas delgadas compuestas, grafeno, etc. Es fácil agregar funciones y puede expandir funciones como limpieza con plasma y grabado. El PECVD El sistema tiene las ventajas de una alta tasa de deposición de película, buena uniformidad, alta consistencia y estabilidad.principales parámetros técnicos de la alimentación de rf rango de potencia de salida 0-500W máxima potencia reflejada 200W frecuencia de trabajo RF: 13,56 MHZ ± 0,005% estabilidad de poder + / -0,1% componente armónico ≤-50dbc ancho de la región rf 0-600mmadjustable forma coincidente automático modo de enfriamiento puntos de frio ruido