Recubridor de recubrimiento por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío de CC o RF utilizado para fabricar células solares de perovskita

Sales Manager: Gia
Email: Gia@tmaxlaboratory.com
Wechat: Dingqiuna

Número de artículo.:
TMAX-650MH
certificado :
CE Certified
garantía :
1 Year limited warranty with lifetime support

Contáctenos

Detalles del producto

Recubridor de recubrimiento por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío CC o RF utilizado para fabricar células solares de perovskita

Introducción

Alto vacío Recubrimiento por pulverización catódica de iones magnetrón es ideal y está diseñado para la ciencia de materiales y la preparación de muestras. Es ampliamente utilizado por la mayoría de las universidades e institutos de investigación científica de ciencia e ingeniería de materiales para recubrir metales, cerámicas, semiconductores, aislantes u otros tipos de preparación de materiales de membranas.

El recubridor por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío proporciona el entorno de pulverización catódica más estable y logra las condiciones experimentales básicas de la pulverización catódica con magnetrón en un período de tiempo muy corto. Proporciona CC/RF dos tipos de opciones de potencia de pulverización catódica que permiten pulverizar sustancias conductoras o no conductoras en la muestra y mejora el rendimiento de la deposición física de vapor (PVD). También es excelente para el tratamiento y recubrimiento de superficies. Es fácil de operar y fácil de usar.

La bomba de vacío y el enfriador están incluidos.

Parámetro

Vacío pbombeo set	(Oil requerido) rrotativo vacuum pump+(oil libre) turbo moleculan pbomba
Rotatorio pbombeo svelocidad	50 Hz: 16 m³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2m³/h (5,2 L/s)
Molecular pbombeo svelocidad	300 l/s
Vacío llimitar	5x10-5Pa
Trabajando ppresión	0,5-5 Pa
Aspirar tiyo	10 min(10-3Pa)
Vacío mmedida	Rango de medición desde la atmósfera hasta 1*10Pa
Control de gas	Gas fbajo ccontrolador
Tamaño de la cámaratamaño	Ï260*200 mm (alto) mmetal
Magnetrón tobjetivo sfuente	Tamaño objetivo Ï 50*3 mm(Cu)/tfuente objetivo: wfácil mmagnético ssustancia /mmateriales
Operación mmétodo	Manual de instruccionesl
Peso/tallatalla	100 kg/610 mm de largo x 420 mm de ancho x 490 mm de alto
Energía ssuministro	CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz
Energía cconsumo	<3000W
Enfriamiento mmétodo	Aire cenfriamiento(pbomba)+ water cenfriamiento (sputtering tobjetivo)
Garantía	Garantía limitada de un año con soporte de producto de por vidat