Recubridor de recubrimiento por pulverización catódica de CC o RF de iones de magnetrón de alto vacío para preparación de muestras SEM

Gerente de ventas: Gia

Correo electrónico: Gia@tmaxlaboratory.com

Wechat: Dingqiuna

Número de artículo.:
TMAX-650MH
Pago:
L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
Puerto de embarque:
Xiamen Port
Plazo de entrega:
5 Days
certificado :
CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate
garantía :
Two years limited warranty with lifetime technical support

Contáctenos

Detalles del producto

Recubrimiento por pulverización catódica de CC o RF de iones de magnetrón de alto vacío para preparación de muestras SEM

Introducción

Alto Recubridor por pulverización catódica de iones de magnetrón al vacío es ideal y está diseñado para la ciencia de materiales y la preparación de muestras. Es ampliamente utilizado por la mayoría de las universidades e institutos de investigación científica de ciencia e ingeniería de materiales para recubrir metales, cerámicas, semiconductores, aislantes u otros tipos de preparación de materiales de membranas.

El recubridor por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío proporciona el entorno de pulverización catódica más estable y logra las condiciones experimentales básicas de la pulverización catódica con magnetrón en un período de tiempo muy corto. Proporciona CC/RF dos tipos de opciones de potencia de pulverización catódica que permiten pulverizar sustancias conductoras o no conductoras en la muestra y mejora el rendimiento de la deposición física de vapor (PVD). También es excelente para el tratamiento y recubrimiento de superficies. Es fácil de operar y fácil de usar.

Se incluyen bomba de vacío y enfriador.

Parámetro

Vacío pbombeo set	(Oil requerido) rrotativo vacuum pump+(oil libre) turbo moleculan pbomba
Rotativo pbombeo svelocidad	50 Hz: 16 m³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2m³/h (5,2 L/s)
Molecular psalto svelocidad	300 l/s
Vacío llimitar	5x10^-5Pa
Trabajando ppresión	0,5-5 Pa
Aspirar tiyo	10 min(10^-3Pa)
Vacío mmedida	Rango de medición desde la atmósfera hasta 1*10^-6Pa
Gas ccontrol	Gas fbajo ccontrolador
Tamaño de la cámara tamaño	Ï260*200 mm (altura) mmetal
Magnetrón tobjetivo sfuente	Tamaño objetivo Ï 50*3 mm(Cu)/tfuente objetivo: weak mmagnético ssustancia /mmateriales
Operación mmétodo	Manual de instruccionesl
Peso/tallatalla	100 kg/610 mm de largo x 420 mm de ancho x 490 mm de alto
Energía ssuministro	CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz
Energía cconsumo	<3000W
Enfriamiento mmétodo	Aire cenfriamiento(pbomba)+ wagua cenfriamiento (sputtering tobjetivo)
Garantía	Garantía limitada de un año con soporte de producto de por vidat

Tmax CE

TMAX Partner

CVD furnace

tube furnace

muffle furnace

1 paquete estándar exportado: protección anticolisión interna, embalaje externo en caja de madera para exportación.

2 Envío por expreso, aéreo o marítimo según los requisitos del cliente para encontrar la forma más adecuada.

3 responsable del daño durante el proceso de envío, cambiará la pieza dañada de forma gratuita.

Etiquetas calientes :

Recubridor por pulverización DC Recubrimiento por pulverización catódica RF Recubrimiento por pulverización magnetrón Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío Recubrimiento al vacío Recubridor para preparación de muestras SEM

Categorías

Nuevos productos